私たちの会社はプロデュースしているプロの会社です パッドボンディングワックスの書き込み, 正方形のガラス基板, ハイテクガラス基板 、科学的研究、開発、製造の統合。それには、大義の熱意と忍耐力、仕事の綿密な、管理の理解、優れた管理、優れたマーケティング、優れたサービスに満ちた人々のグループがあります。起業家チームは、顧客に優れたオールラウンドサービスを提供します。 完全な範囲があります試験装置用研磨液、生産技術の完璧さを目指して努力し、幅広い市場のニーズを満たすために新製品を開発し続けます。 新しい歴史的開発期間に直面して、当社は引き続きユーザーにますます優れた製品とサービスを提供し、ユーザーのニーズを満たし続けます。私たちは、自宅と海外の新しい顧客と古い顧客を心から歓迎し、一緒に交渉し、導き、開発します。 優れたコーポレートガバナンスは、会社の価値を高め、会社の資産の安全性、運用効率、財務報告の信頼性を保護することができます。 私たちは、新しいビジネスを試して、最先端のビジネスコンセプトとチェーンモデルを常に探求するのに十分勇敢です。 私たちは常に当社に技術革新を行っており、市場の完全な研究に基づいて、有利なリソースを統合して他の関連製品市場に削減し、新しい利益成長点を開発しています。 私たちのチームは、曲線の先を行くために継続的な学習と開発に取り組んでいます。 私たちは、高品質の製品を提供する際の信頼性と一貫性に対する評判に誇りを持っています。
  • エタンジオール研磨液
    主成分としてのエチレングリコールは、優れた溶解度と化学的安定性を持ち、他の添加物に安定した液相環境を提供し、各成分の均一な分散と相乗効果を確保します。腐食阻害剤は、その基準に基づいて添加されているため、研磨プロセス中の研磨材の腐食を効果的に防ぎ、材料の元の特性を保護します。
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  • 酸化セリウム粉末
    外観:それは通常、白またはわずかに黄色の粉であり、純度が増加すると、色は白に近づきます。
    密度:密度は比較的高く、約7.13 g/cm³であるため、高密度材料を必要とする一部のアプリケーションで利点があります。
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  • ホウ素炭化物粉末
    硬度が高い:炭化ホウ素は、ダイヤモンドと立方体の窒化キュービックホウ素に次ぐ硬度があり、MOHS硬度は9.3です。これにより、研削、切断、その他のフィールドに優れており、さまざまな硬い材料を効果的に処理できます。
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  • ダイヤモンド懸濁液
    硬度が高い:ダイヤモンドは非常に高い硬度を持ち、最大10のMOHS硬度があり、さまざまな材料を効果的に粉砕および切断し、研削および研磨プロセスでうまく機能します。
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  • 薄膜結合ワックス
    薄膜の接着ワックスは、光学ガラス、サファイア、クリスタル、シリコンウェーハ、ゲルマニウムウェーハ、ニオベートリチウム、リチウム、リチウム、金属、ピエゾ電気セラミックなどの半導体材料の結合プロセスに適しています。 。
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  • 高融点薄膜結合ワックス
    高温薄膜接着ワックスは、光学ガラス、サファイア、クリスタル、シリコンウェーハ、ゲルマニウムウェーハ、ニオベートリチウム、リチウム、リチウム、金属、金属、ピエゾ電気セラミクスなどの半導体材料の結合プロセスに適しています。研磨プロセス。
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  • ワックス液体
    粘度安定性が高い:液体ワックスは優れた粘度の安定性を持ち、温度とプロセス条件が異なる下で粘度の変化を最小限に抑えます。この機能により、液体ワックスは、ウェーハの薄化プロセス中に均一なコーティングの厚さと安定した接着を維持できることを保証し、ウェーハの信頼できるサポートと保護を提供します。
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  • 腐食耐性ガラス基板
    ガラス材料の特別な式を使用して、高温融解と特別な化学処理プロセスを受け、一般的な酸塩基や他の化学試薬に非常に耐性があります。高酸性の粉砕液環境であろうとアルカリ洗浄溶液であろうと、腐食、溶解、または劣化なしで長期間安定性を維持できます。
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  • 溝付きポリウレタン研磨パッド
    現代の材料表面処理の精密機械加工分野では、グルーブポリウレタン研磨パッドは、革新的なデザインと優れたパフォーマンスにより、高品質の研磨を達成するために多くの産業にとって重要な消耗品となっています。
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  • オイルベースの懸濁液液
    オイルベースの懸濁液は、オイル物質の連続相でさまざまな固体粒子を均一に分散させることによって形成される安定したシステムです。多くの産業分野、特に材料加工において非常に高い精度と表面の品質を必要とする半導体業界で重要な役割を果たしています。
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  • コロイドシリカ研磨液
    二酸化シリコン研磨溶液は、精密製造の分野における重要な研磨培地であり、ナノスケールの二酸化シリコン粒子が主な研磨剤およびさまざまな添加物です。半導体業界では特に重要です。
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  • 化学研磨液
    半導体研磨および研磨化学研磨溶液の実用的な原理は、化学機械的相乗効果です。研磨プロセス中、研磨溶液中の研磨粒子は、機械的力の作用下で半導体材料の表面と物理的な摩擦を受け、表面の突き出部分を除去します
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物事の品質は非常に優れており、カスタムメイドはとても美しいです。ビジネスが良ければ、私は注文し続けます。
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私はついに必要な製品を手に入れました、とても幸せです!
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あなたは休日にも配達を手配することができます。これはあなたの会社が物事を非常に真剣に受け止めていることを示しており、あなたの側がますます発展することを願っています。
将来、私たちは製品システムを改善し続け、さらに開発します 精密加工のためのラップと研磨, 粗い研磨パッド, 最先端のガラス基板 さまざまな顧客グループがニーズを満たすためのサービス。 私たちは主要な人の一人としてよく知られています試験装置用研磨液中国のメーカー。割引を購入する場合試験装置用研磨液、私たちの工場からプライセリストを入手してください。また、カスタマイズされたサービスが利用可能です。
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