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Sep 11, 2026研磨パッドの選択ガイド、硬度と溝の設計研磨パッドの選択方法: 硬度と平坦性、溝パターンとスラリー搬送、パッドの材質、パッドとワークピースのマッチング、コンディショニング、ウェーハあたりのコスト。もっと見る -
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Jul 30, 2026ウェーハラッピング研磨機:半導体ファブのプロセスの基礎このガイドでは、購入者が自信を持って適切なオプションを指定できるように、ウェーハ ラッピング 研磨機の選択、比較、ベスト プラクティスについて説明します。もっと見る -
Jul 03, 2026新しい導体用半自動精密ウェーハ研削および研磨装置-半導体、マイクロエレクトロニクス、新エネルギー産業の急速な発展に伴い、導体ウェーハはチップ製造、パワーデバイス、オプトエレクトロニクス部品の中核となる基材となっています。導体ウエハーの表面平坦度、厚み均一性、表面粗さ・・・。もっと見る -
Jun 08, 2026HISEMI TECHNOLOGY は、第 3 世代半導体材料の精密加工を支援する新しいデュアルステーション精密研削研磨機を発売{0}}HISEMI TECHNOLOGY 最近、HISEMI TECHNOLOGY は新世代のデュアルステーション実験室用精密研削および研磨装置を正式にリリースしました。この新製品は、第 3 世代などの硬くて脆い材料の小規模バッチ サンプルの研削および研磨シナリオに焦点を当てています。-もっと見る -
Jun 08, 2026HISEMI TECHNOLOGY の新しい半自動精密ウェーハ研削研磨装置が正式に発売され、半導体基板の精密加工の現地化に貢献HISEMI TECHNOLOGY は、自社開発した次世代のラッピング&研磨機をリリースしました。これは、第 3 世代半導体およびオプトエレクトロニクス結晶の研究開発における小ロットのサンプル処理の緊急ニーズをターゲットにしており、細分化された分野のギャップを埋めています。-もっと見る -
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Jan 15, 2026ポリシリコンのラッピング・研磨液多結晶炭化ケイ素 多結晶炭化ケイ素 多結晶炭化ケイ素(多結晶 SiC)は、代表的な高性能構造用セラミックスであり、半導体装置の主要材料として、光学窓、半導体装置などで重要な役割を果たしています。{0}もっと見る -
Jan 15, 2026ニオブ酸リチウム (LiNbO3) 薄膜ニオブ酸リチウム (LiNbO3) 薄膜 ニオブ酸リチウム (LiNbO3) 薄膜は、集積フォトニクスおよび表面弾性波デバイスのコア材料であり、その優れた電気光学特性により、高性能光変調器、導波路、センサー、RF フィルターにおいてかけがえのない役割を果たしています。-もっと見る -
Dec 26, 2025光ファイバーコネクタ端面-研磨液光ファイバ コネクタ端-面研磨ソリューション はじめに 光ファイバは、現代の情報通信およびセンシング ネットワークの物理的バックボーンとして機能します。その伝送性能、接続の信頼性、長期安定性は基本的に端面に依存します。-もっと見る -
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Dec 19, 2025ダイヤモンド サスペンションによる電子部品のラッピング-微細-電子部品の研削: ダイヤモンド サスペンションによる微-精度 電子部品の研削: ダイヤモンド サスペンションによる微-精度の達成-エレクトロニクス製造の非常に競争の激しい世界では、誤差の許容範囲は非常に小さいです。一貫した高品質の実現-もっと見る
