私たちは、「奉仕と勤勉」の精神と「誠実さと革新」の原則を遵守します。私たちは提供することに取り組んでいます 異なる粒子サイズラッピングパウダー, 信頼できるラッピングパウダー, 一流ガラス基板 さまざまなユーザーのニーズを満たすサービス。 私たちは、新しいものを開発することで、優れた企業の評判を獲得しています研磨ソリューションプロバイダーそして、成熟したマーケットチャネルは必ずありません。 高品質でパーソナライズされたデザインを使用して、当社の製品をオリジナルブランドの方向性に遵守し、同様の企業との競争で市場の最前線に技術特許を維持します。 創意工夫と技術により、優れた製品、精巧なサービス、長期開発を実現できます。全体的な処理に厳格なプロセス要件を採用しています。 未来を楽しみにして、私たちは信仰に固執し、改善を続け、絶えず拡大します。私たちは、あらゆる歩みの人々との双方にとって有利な協力を達成したいと心から望んでいます。 私たちの会社はR&Dとイノベーションを主張しており、私たちの工場は成熟しており、自己設計のインテリジェントな生産ラインと組み立ておよびテスト機器が生産とアプリケーションに投入され始めています。将来、同社は、コアテクノロジーを備えた製品の国際的なブランドおよびメーカーおよびサービスプロバイダーとしての地位を確立するよう努めています。 顧客サービスに揺るぎないコミットメントがあり、クライアントが常に迅速かつ有用な支援を受けることを保証します。 信頼と相互尊重に基づいて、長期的な関係の構築を優先します。
  • コロイドシリカ研磨液
    二酸化シリコン研磨溶液は、精密製造の分野における重要な研磨培地であり、ナノスケールの二酸化シリコン粒子が主な研磨剤およびさまざまな添加物です。半導体業界では特に重要です。
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  • 酸化セリウム粉末
    外観:それは通常、白またはわずかに黄色の粉であり、純度が増加すると、色は白に近づきます。
    密度:密度は比較的高く、約7.13 g/cm³であるため、高密度材料を必要とする一部のアプリケーションで利点があります。
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  • ホウ素炭化物粉末
    硬度が高い:炭化ホウ素は、ダイヤモンドと立方体の窒化キュービックホウ素に次ぐ硬度があり、MOHS硬度は9.3です。これにより、研削、切断、その他のフィールドに優れており、さまざまな硬い材料を効果的に処理できます。
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  • クォーツワックス
    半導体石英ワックスは、半導体製造の主要なプロセス用に慎重に開発されており、優れた性能を持つ機能材料です。これは、材料の高精度、高純度、安定性のために半導体産業の厳しい要件を満たすことができるユニークなフォーミュラと高度な技術で合成されています。
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  • ワックス液体
    粘度安定性が高い:液体ワックスは優れた粘度の安定性を持ち、温度とプロセス条件が異なる下で粘度の変化を最小限に抑えます。この機能により、液体ワックスは、ウェーハの薄化プロセス中に均一なコーティングの厚さと安定した接着を維持できることを保証し、ウェーハの信頼できるサポートと保護を提供します。
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  • ラップガラス基板
    粗さの範囲は、Ra 0過度の粗さのために加工材料の表面に。
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  • 腐食耐性ガラス基板
    ガラス材料の特別な式を使用して、高温融解と特別な化学処理プロセスを受け、一般的な酸塩基や他の化学試薬に非常に耐性があります。高酸性の粉砕液環境であろうとアルカリ洗浄溶液であろうと、腐食、溶解、または劣化なしで長期間安定性を維持できます。
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  • ケムクロス研磨布
    純粋な化学物質研磨パッドは、特別な化学合成材料で作られており、表面には豊富な活性化学グループが含まれています。これらの官能基は、磨かれた材料の表面と特定の化学反応を起こし、小さな突起や欠陥を迅速に溶解またはエッチングし、それにより効率的な表面レベリングを達成することができます。
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  • 豪華な布研磨パッド
    材料表面処理の微細な処理の分野では、精密研磨パッドは優れた表面品質を達成する上で重要な要素であり、半導体、光学系、金属処理などの産業で非常に高い表面精度を必要とする産業で広く使用されています。
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  • オイルベースの懸濁液液
    オイルベースの懸濁液は、オイル物質の連続相でさまざまな固体粒子を均一に分散させることによって形成される安定したシステムです。多くの産業分野、特に材料加工において非常に高い精度と表面の品質を必要とする半導体業界で重要な役割を果たしています。
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  • エタンジオール研磨液
    主成分としてのエチレングリコールは、優れた溶解度と化学的安定性を持ち、他の添加物に安定した液相環境を提供し、各成分の均一な分散と相乗効果を確保します。腐食阻害剤は、その基準に基づいて添加されているため、研磨プロセス中の研磨材の腐食を効果的に防ぎ、材料の元の特性を保護します。
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  • 化学研磨液
    半導体研磨および研磨化学研磨溶液の実用的な原理は、化学機械的相乗効果です。研磨プロセス中、研磨溶液中の研磨粒子は、機械的力の作用下で半導体材料の表面と物理的な摩擦を受け、表面の突き出部分を除去します
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同社は非常に責任のある態度を持ち、商品を受け取った後に製品を使用する際に取られる予防措置を紹介し、製品を使用および維持するための具体的な手順を知らせるイニシアチブを取りました。
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私は以前にそれを一度購入しました、そしてそれは気分が良かったので、私は再びこのサプライヤーを選びました。
会社の技術的強さをさらに改善するために、同社は大学、機関、専門家、教授と積極的に協力しており、新しいものの研究開発、設計、適用に取り組んでいます。 倉庫ガラス基板, コラボレーション用ガラス基板, 抗菌性研磨パッド テクノロジー。 私たちは主要な人の一人としてよく知られています研磨ソリューションプロバイダー中国のメーカー。割引を購入する場合研磨ソリューションプロバイダー、私たちの工場からプライセリストを入手してください。また、カスタマイズされたサービスが利用可能です。
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