当社のビジネスモデルは柔軟性があり、多くのメーカーの戦略的パートナーになり、 関連する製品ラッピングパウダー, 競合するガラス基板, レンズ研磨パッド 業界。 当社の製品ラインは最高の技術基準に到達することができ、したがって、最大出力と最高の品質レベルを保証することができます硬質ガラス基板。 当社は、さまざまな材料、プロパティ、仕様の顧客ニーズを満たすために、幅広い購入チャネル、完全な製品、および十分な供給を持っています。 私たちは常に、専門的で専用の専用のサービスコンセプトを順守しています。 私たちは本当に工場の直接販売を行っています。自動機器と自動生産ラインがあります。 私たちの会社は、環境を保護し、社会を返済する責任を負い、「誠実さ、プロフェッショナリズム、厳密さ、革新」を私たちの絶え間ない追求と目標として取り入れ、より良いサービスで社会を返します。 持続可能性への私たちのコミットメントは、当社の事業を超えて、お客様とサプライヤーを含めることです。 当社の製品は、費用対効果が高く効率的になるように設計されています。
  • ラップガラス基板
    粗さの範囲は、Ra 0過度の粗さのために加工材料の表面に。
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  • 酸化アルミニウム粉末
    外観:通常は白または白のアモルファス粉末であり、その粒子のサイズと形状は、さまざまな準備方法とプロセス条件によって異なる場合があります
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  • ホウ素炭化物粉末
    硬度が高い:炭化ホウ素は、ダイヤモンドと立方体の窒化キュービックホウ素に次ぐ硬度があり、MOHS硬度は9.3です。これにより、研削、切断、その他のフィールドに優れており、さまざまな硬い材料を効果的に処理できます。
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  • 薄膜結合ワックス
    薄膜の接着ワックスは、光学ガラス、サファイア、クリスタル、シリコンウェーハ、ゲルマニウムウェーハ、ニオベートリチウム、リチウム、リチウム、金属、ピエゾ電気セラミックなどの半導体材料の結合プロセスに適しています。 。
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  • 高融点薄膜結合ワックス
    高温薄膜接着ワックスは、光学ガラス、サファイア、クリスタル、シリコンウェーハ、ゲルマニウムウェーハ、ニオベートリチウム、リチウム、リチウム、金属、金属、ピエゾ電気セラミクスなどの半導体材料の結合プロセスに適しています。研磨プロセス。
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  • クォーツワックス
    半導体石英ワックスは、半導体製造の主要なプロセス用に慎重に開発されており、優れた性能を持つ機能材料です。これは、材料の高精度、高純度、安定性のために半導体産業の厳しい要件を満たすことができるユニークなフォーミュラと高度な技術で合成されています。
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  • 腐食耐性ガラス基板
    ガラス材料の特別な式を使用して、高温融解と特別な化学処理プロセスを受け、一般的な酸塩基や他の化学試薬に非常に耐性があります。高酸性の粉砕液環境であろうとアルカリ洗浄溶液であろうと、腐食、溶解、または劣化なしで長期間安定性を維持できます。
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  • プレーン拡張ポリウレタン研磨パッド
    ポリウレタン研磨パッドは、最新の産業精度機械加工で広く使用されているため、優れた性能と多様な特性を備えたさまざまな材料の表面研磨のための効率的で信頼できるソリューションを提供します。
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  • 溝付きポリウレタン研磨パッド
    現代の材料表面処理の精密機械加工分野では、グルーブポリウレタン研磨パッドは、革新的なデザインと優れたパフォーマンスにより、高品質の研磨を達成するために多くの産業にとって重要な消耗品となっています。
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  • 豪華な布研磨パッド
    材料表面処理の微細な処理の分野では、精密研磨パッドは優れた表面品質を達成する上で重要な要素であり、半導体、光学系、金属処理などの産業で非常に高い表面精度を必要とする産業で広く使用されています。
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  • コロイドシリカ研磨液
    二酸化シリコン研磨溶液は、精密製造の分野における重要な研磨培地であり、ナノスケールの二酸化シリコン粒子が主な研磨剤およびさまざまな添加物です。半導体業界では特に重要です。
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  • 化学研磨液
    半導体研磨および研磨化学研磨溶液の実用的な原理は、化学機械的相乗効果です。研磨プロセス中、研磨溶液中の研磨粒子は、機械的力の作用下で半導体材料の表面と物理的な摩擦を受け、表面の突き出部分を除去します
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私たちは常に、エネルギー消費を削減し、効率を改善するために、高品質の原材料と高度な処理技術を選択することを主張してきました プラスチック用の接着ワックス, GS規格準拠のガラス基板, 耐火性ガラス基板 。 私たちは主要な人の一人としてよく知られています硬質ガラス基板中国のメーカー。割引を購入する場合硬質ガラス基板、私たちの工場からプライセリストを入手してください。また、カスタマイズされたサービスが利用可能です。
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